OVD沉积设备
OVD沉积设备
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OVD沉积设备是用于光纤预制棒外包生产制造的重要设备，OVD 技术主要是通过在基材上沉积硅氧化物来形成光纤所需的光学特性和结构特点。
OVD沉积技术具有以下优势：
高纯度与均匀性：由于在气相中进行沉积， OVD 可以制造出高纯度的材料，且沉积层均匀性高。
设计灵活性：可以调整沉积材料和工艺参数，生成具有不同折射率和结构的光纤。
适用性广：适用于各种类型的光纤预制棒，包括单模和多模光纤。
OVD 沉积设备在光纤生产中起着至关重要的作用，以其高效和精确的沉积过程来满足现代光通信和传感器技术的要求。
主要技术指标
| 1 | 单次沉积数量 | 3根 |
| 2 | 喷灯数量 | 9个 |
| 3 | 沉积松散体最大直径 | Ф330mm |
| 4 | 预制棒直径 | Ф10-150mm |
| 5 | 预制棒有效长度 | 1800mm |
| 6 | 沉积重量 | 1-55kg |
| 7 | 沉积重量误差 | ±0.1kg |
| 8 | 沉积速率 | 35g/min |
| 9 | 附着率 | 65% |
| 10 | 1mm以内气泡数量 | ≤50 |
| 11 | 使用原料 | SiCl4\CH4\O2 |
设备组件
| 1 | 沉积舱 | 1套 |
| 2 | 蒸发柜 | 1套 |
| 3 | 气柜 | 1套 |
| 4 | 废气处理装置 | 1套 |
| 5 | 电控系统 | 1套 |
